Beam Splitting Principle
355 nm 固体紫外激光器
单纵模紫外激光器
低噪声紫外激光器
高稳定性紫外激光器
- UV-FN-355/ 1~50mW
- UV-A-355/ 50~450mW 连续
- UV-B-355/ 100~1000mW TEM00, M 2 <1.1
- UV-C-355/ 1~2W
- UV-D-355/ 2~5W
- UV-FN-355-SM/ 1~20mW
被动调Q紫外激光器
- MPL-FN-355/ 1~15µJ/ 1~30mW 脉宽 <600ps
- MPL-F-355/ 0.1~15µJ/ 1~100mW
- MPL-Q-355/ 0.1~15µJ/ 1~150mW 脉宽 1.3ns
- MPL-S-355-LP/ 1~30µJ/ 1~30mW 风冷/水冷
- FL-355/ 1~50µJ/ 1~1000mW 针对激光加工
- Mini-E-PA-355/ 40µJ / 1000mW 打标
- MPL-FL-355/ 1~50µJ/ 1~1000mW
- MPL-S-355-HP/ 1~120µJ 风冷/水冷
主动调Q紫外激光器
- AO-S-355/ 1~40µJ/ 1~100mW
- AO-Mini-E-355/ 1~200µJ/ 1~1000mW 小尺寸
- AO-V-355/ 1mJ/ 1W/ 3W/ 5W 风冷 & 水冷可选
- AO-355A/ 1mJ / 1W/ 3W/ 5W 一体风冷
- AO-355B/ 1W/ 3W/ 5W
- AO-355W/ 1mJ/ 5W
- AO-355W/ 1W/ 3W/ 12W 20W 25W/ 40W/ 60W 一体风冷
- AO-532A & 355A/ 500µJ/ 1W & 500µJ/ 1W
- EO-S-355-L/ 1~10µJ / 1~10mW
- EO-355-PS/ 30uJ
- EO-355-Subnano/ 1~50µJ / 1~100mW 脉宽<1.5 ns @ 1 kHz
- EO-XS-355/ 1~50µJ/ 1~2W 脉宽 ~4 ns @ 40 kHz
- EO-S-355-RS/ 1~70µJ/ 1~150mW 脉宽 ~1.3 ns @ <10 kHz
- EO-355-P-Subnano/ 1~130µJ
- EO-355-G/ 4~150µJ 光束质量好
- EO-355-N/ 4~200µJ
- EO-355-Subnano-Hi/ 1~600µJ/ 1~3W 脉宽 <1.5 ns @ 5 kHz
- DPS-355-E/ 1~2mJ
- DPS-355-Neoma/ 1~4mJ
- DPS-355-Q/ 1~10mJ 水冷
灯泵紫外调Q激光器
皮秒脉冲紫外激光器
- DPS-355-Pico/ 100~700mW
- PS-D-532 & 355-Air/ 1~500mW
- PS-D-355-Air/ 1~1000mW 脉宽 ~10 ps
- PS-D-355-Water/ 1~2000mW 脉宽h ~10 ps
- PS-D-355/ 1~30W 脉宽<10 ps
光纤紫外激光器
- FL-355-PS/ 1~50mW 脉宽 <10 ps
- FL-355-Pico/ 1~50mW 脉宽 100-900 ps 固定
- FL-355-Nano/ 10~300mW 脉宽 0.5-50ns可选
紫外光纤耦合系统
UV-Grade Fused Silica Prism
Flatness: λ/5
Surface Quality: Class I
Clear Aperture:18mm × 10mm
Transmission: R>99.5%, λ=266-355nm, Brewster angle of incidence
Coating: Without coating
Angle of incidence: 57+/-1°
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